Organisasi-organisasi yang terkait dengan negara disarankan untuk menggunakan mesin litografi imersi berbasis laser baru dengan resolusi 65 nanometer (nm) atau lebih baik, Kementerian Perindustrian dan Teknologi Informasi mengatakan dalam sebuah pengumuman September.
Meski demikian catatan tersebut tidak menyebut rincian pemasoknya, spesifikasi tersebut menandai langkah yang signifikan dari peralatan pribumi tercanggih sebelumnya — yang dikembangkan oleh Shanghai Micro Electronics Equipment Group Co - yang mencapai sekitar 90nm.
Perusahaan seperti SMEE berlomba untuk mengembangkan mesin yang dapat menutup kesenjangan dengan pemasok seperti ASML Holding NV, yang sekarang dilarang melakukan pengiriman ke China.
Kemajuan yang diklaim oleh MIIT menunjukkan bahwa saingan dalam negeri mulai membuat kemajuan dalam mengembangkan mesin yang lebih canggih, meskipun SMEE dan rekan-rekannya masih harus menempuh jalan panjang untuk mengejar orang-orang seperti ASML.
(bbn)
